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[热学] 自组装单分子膜实现高填充热界面材料中热阻同步降低的新突破

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发表于 2025-10-9 15:38:54 | 查看全部 |阅读模式
本帖最后由 搁浅 于 2025-10-9 15:43 编辑

自组装单分子膜实现高填充热界面材料中热阻同步降低的新突破( DOI: 10.1002/adfm.202402276

一、研究背景

随着电子设备向高集成度、高功率密度方向发展,热管理成为制约其性能和寿命的关键瓶颈。热界面材料(Thermal Interface Materials, TIMs)作为连接热源与散热器之间的“热桥”,其性能直接影响整个热管理系统的效率。
传统TIM的性能由两个核心参数决定:
  • 体热阻(RB):与材料厚度(BLT)成反比,与热导率成正比;
  • 接触热阻(RC):与界面接触质量密切相关。



在高填充(>76 vol%)条件下,提高填料热导率虽可降低RB,但往往导致材料变硬、界面接触变差,从而反而增加RC。因此,如何在高填充条件下同时降低RB与RC,成为TIM领域亟待解决的难题。

二、研究创新点
本研究首次提出利用自组装单分子膜(Self-Assembled Monolayers, SAMs)对Al₂O₃填料进行表面修饰,从分子层面调控填料与基体之间的界面行为,实现了:
  • RB降低一个数量级(从2.265降至0.114 K·cm²/W);
  • RC降低81.2%(从0.29降至0.055 K·cm²/W);
  • 有效热阻抗(REFF)最低达0.169 K·cm²/W,相比未处理样品提升10倍;
  • 热稳定性优异,在1000次热冲击循环后性能几乎无衰减。




三、SAMs作用机制解析
1. 降低表面能,改善分散性
SAMs修饰后,Al₂O₃表面能从40.17 mJ/m²降至16.81 mJ/m²,显著削弱颗粒间范德华力,抑制团聚,提升在硅油基体中的分散均匀性。

2. 降低屈服应力与复模量
  • 屈服应力从252.2 Pa降至23.0 Pa;
  • 复模量下降45%以上;
  • 材料更易在低压下流动,显著降低BLT(从619 μm降至38 μm)。



3. 强化界面结合,降低RC
SAMs通过形成Al-O-Si共价键,增强填料与基体之间的界面相容性,降低界面热阻。同时,柔性烷基链可吸收界面热应力,提升热循环稳定性。

4. 碳链长度的调控作用
  • 短链(C4)SAMs:更有利于降低RB和REFF;
  • 长链(C18)SAMs:增强界面柔韧性,降低RC,但会略微增加RB;
  • 最优链长需根据应用场景权衡,本研究中C4链表现最佳。



四、实际应用性能验证
研究团队采用T3Ster热测试系统对SAM-TIM进行实际芯片-散热器界面测试:
  • 芯片温度降低3°C以上;
  • 热成像显示热分布更均匀;
  • 在21 W/cm²热流密度下,性能优于商用TIM(κ=3.2 W/m·K);
  • 1000次热循环后性能稳定,具备优异可靠性



五、研究意义与前景
本研究不仅突破了高填充TIM中“热导率↑ → 接触性能↓”的传统瓶颈,还为以下方向提供了新思路:
  • 分子界面工程在热管理材料中的应用;
  • SAMs作为填料表面调控的通用策略;
  • 为5G通信、功率电子、LED等高发热器件提供高效热管理解决方案;
  • 未来可拓展至BN、SiC、AlN等其他陶瓷填料体系,进一步提升热导率与界面性能。



六、结语
通过自组装单分子膜技术,本研究成功实现了高填充TIM中体热阻与接触热阻的同步优化,为下一代高性能热界面材料的开发提供了理论基础和实验路径。随着电子器件热流密度的持续提升,这种**“分子级界面调控”策略**将在热管理领域展现出更广阔的应用前景。

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