Olex2中如何添加和编辑约束与限制 在晶体精修的过程中我们经常需要添加和编辑约束(restraint)和限制(constraint),本篇内容将简单介绍如何在Olex2中添加和编辑常见约束及限制。 常见约束和限制命令及其用法可参见如下来源: 1. SHELX官网:Alphabetical listof SHELXL instructions 上图为SHELX官网中关于SHELXL指令的列表,红色方框中即为所有指令,每个指令均为超链接,点击后即可调至相应内容,例如点击ABIN后网页跳转如下: 在其上方的Back to List超链接可以回到列表,使用起来十分方便。 下图是我们常用的isor限制指令的用法及其介绍: 其他指令读者可自行查看。 2. 英文原著《Crystal StructureRefinement: A Crystallographer's Guide toSHELXL》及其中文版《晶体结构精修:晶体学者的SHELXL软件指南》 该书中各项约束和限制指令穿插在各个章节中有详细用法和例子。 3. 《单晶结构分析原理和实践》 该书中第十章中两个表格“XL和XS常用指令与实例”和“XP的常用指令”中的绝大多数指令均可适用于Olex2中: Olex2中Tools项目栏下有三栏关于约束与限制的工具栏,如下图所示: 例如对芳香环进行刚性限制的AFIX限制: 在Olex2中使用示例如下: 首先选中要限制的某环中的一个原子(或所有原子),然后在Shelx CompatibleConstraints中设置指令,最后点击go执行该指令: 执行后程序反应如下: ins文件中内容如下: 随后精修即可,非常方便,无需自己去ins中找这六个原子,然后在其列表前后添加AFIX 66和AFIX 0,在Olex2中你只需要在操作界面中用鼠标设置好,命令的写入Olex2会帮你准确无误地完成。 当然了,如果你能记住你所要添加的指令的形式及其用法,那么可以将其过程简化如下: 首先同样的选中要限制的某环中的一个原子(或所有原子),然后在命令输入区键入指令“afix 66”,如下图所示: 然后回车,程序执行该指令并反馈如下: 随后往下接着精修即可。 如需PDF文档,请从以下链接下载: 通过网盘分享的文件:Olex2中如何添加和编辑约束与限制.pdf
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